# 2026年新品發(fā)布會#

日期：2026年2月5日

時間：8：30-18：30

近期我司新推出升級了ULVAC 愛發(fā)科CRYO - U16 的高負(fù)荷款雙級 GM 冷凍低溫泵

核心產(chǎn)品優(yōu)勢

超大抽速與高負(fù)荷耐受：20℃下氮抽速 5000L/s、氫 10000L/s、水 16000L/s，氬大流量 1.6×103Pa?L/s，極限壓力達(dá) 10??Pa（10??Torr），可快速建立超高真空，適配高負(fù)荷工藝；氬排氣容量 4.3×10?Pa?L，氫 2.4×10?Pa?L，耐熱負(fù)荷強，減少再生頻率，提升產(chǎn)線效率ulvac-cryo...。

無油清潔真空，保障工藝純凈：通過冷凝與吸附捕集氣體，無油蒸氣返流，避免晶圓、光學(xué)元件等精密產(chǎn)品污染，適配高潔凈度要求的制造場景，降低不良率。

適配大中型設(shè)備，兼容性強：作為高負(fù)荷型號，適配大中型沉積、刻蝕等批量生產(chǎn)設(shè)備；雙級 GM 冷凍機冷卻，冷卻時間約 120/110min（50/60Hz），可與多臺壓縮機聯(lián)動，安裝靈活，適配不同產(chǎn)線布局。

穩(wěn)定可靠，維護(hù)成本可控：內(nèi)置吸附劑與冷凝板設(shè)計，再生流程成熟，故障預(yù)警系統(tǒng)可監(jiān)測運行狀態(tài)；模塊化結(jié)構(gòu)便于檢修，適配工業(yè)長時間連續(xù)運行，降低運維成本。

氣體適配性廣，覆蓋多元需求：對水汽、氮、氬等冷凝性氣體及氫等非冷凝性氣體均有高效抽排能力，適配多氣體混合的工藝環(huán)境，無需額外配置多種泵體，節(jié)省設(shè)備投入。

核心用途

半導(dǎo)體與微電子制造：用于晶圓濺射、CVD、刻蝕等設(shè)備，提供超高真空環(huán)境，保障薄膜沉積均勻性與電路性能，適配 12 英寸晶圓等大中型產(chǎn)線批量生產(chǎn)。

光伏與顯示面板：光伏電池片鍍膜、FPD（平板顯示）大面積沉積工藝，快速抽排反應(yīng)氣體，提升鍍膜效率與產(chǎn)品良率，適配大規(guī)模量產(chǎn)線。

光學(xué)與精密制造：光學(xué)鏡片、激光元件等真空鍍膜，無油真空避免鏡片污染，保障光學(xué)性能，適配高精度光學(xué)器件生產(chǎn)與研發(fā)。

科研與材料研發(fā)：高校、科研機構(gòu)的真空物理實驗、超導(dǎo)材料制備、核聚變相關(guān)裝置，提供潔凈超高真空環(huán)境，助力前沿材料與技術(shù)研發(fā)。

航空航天與汽車：航空發(fā)動機部件真空熱處理、汽車零部件 PVD 涂層，保障部件性能與使用壽命，適配制造領(lǐng)域嚴(yán)苛工藝要求。